晶圓是指用于制造硅半導體電路的硅片。它的原材料是硅。將高純度多晶硅溶解，與硅晶種混合，然后緩慢拉出，形成圓柱形單晶硅。經過研磨、拋光和切片后，形成硅晶圓片，即硅片。晶圓的主要加工方法是片加工和批加工，即一個或多個晶圓同時加工。隨著半導體的特征尺寸越來越小，加工和測量設備越來越高科技，晶圓加工中出現(xiàn)了新的數(shù)據(jù)特征。同時，特征尺寸的減小增加了空氣中顆粒數(shù)量對晶圓加工質量和可靠性的影響。隨著清潔度的提高，顆粒數(shù)量也呈現(xiàn)出新的數(shù)據(jù)特征。晶圓成品率的提高直接關系到芯片的市場競爭力。

　　提高晶圓產量可以從清潔水質開始。超純水是精密元器件生產質量的重要保證。目前，電子晶圓行業(yè)超純水設備大多采用反滲透+EDI+拋光混床的生產工藝。這是一種環(huán)境友好、經濟且有潛力的超純水制備工藝。與傳統(tǒng)超純水制備工藝相比，該工藝再生不需要回收化學品。EDI水處理工藝不需要添加任何化學品，減少了化學品的運輸，降低了系統(tǒng)的運行成本。不需要中和劑。EDI膜塊不產生酸堿廢液，不需要酸堿中和罐。EDI水處理系統(tǒng)產生的濃縮水一般可以回收利用。整個系統(tǒng)的運行成本較低。EDI電子晶圓行業(yè)超純水設備主要消耗電力維持系統(tǒng)運行，低于傳統(tǒng)混床工藝。水資源利用率高。與混床工藝相比，EDI電子晶圓行業(yè)超純水設備的水利用率可達95～99%，有效提高了水資源的利用率。EDI電子晶圓行業(yè)超純水設備無需更換樹脂即可連續(xù)工作，自動化程度高，無需人工操作。EDI電子晶圓行業(yè)超純水設備結構緊湊，占地面積小，安裝方便。

　　電子晶圓行業(yè)超純水設備目前正從晶圓的基礎水開始，履行保護晶圓純度的職責，持續(xù)穩(wěn)定地制備滿足晶圓生產需要的超純水，產水電導率可達18MΩ·CM(25℃)。