經(jīng)過國內(nèi)廠家多年的追趕，我國集成電路關鍵裝備已形成一定的支撐能力，國內(nèi)半導體設備已完成從“從0到1”的突破。

　　由于供不應求，自2020年底以來，半導體集成電路產(chǎn)能持續(xù)緊張，導致制造、封測價格上漲，芯片交付周期延長。在產(chǎn)能短缺的背景下，半導體行業(yè)預計將大規(guī)模擴大生產(chǎn)，推動對半導體制造設備的強勁需求。另一方面，半導體設備的進口一直受到限制，因此國內(nèi)半導體設備的替代前景非常廣闊。

　　超純水設備成為半導體行業(yè)重要推動力

　　半導體的制造是在一級潔凈度(每立方英尺的空氣中只能有一粒直徑小于0.3微米的灰塵)的環(huán)境中進行的，這表明了半導體元件在生產(chǎn)過程中對潔凈度的要求有多嚴格。在芯片生產(chǎn)過程中，影響其品質(zhì)的不止有空氣，還有水質(zhì)。因此，在大力發(fā)展半導體的同時，我國對其水質(zhì)也提出了更高的要求。可以說，超純水設備已成為半導體行業(yè)的重要驅(qū)動力。

　　超純水的生產(chǎn)流程是怎樣的?

　　自來水進入原水箱，通過原水泵增壓，經(jīng)砂濾器、炭濾器、阻垢劑加藥、保安過濾器，到達反滲透單元，經(jīng)兩級反滲透過濾進入EDI單元，拋光混床單元，EDI出水進入純水水箱，此時水質(zhì)的電阻率是15兆歐，經(jīng)過拋光混床后，產(chǎn)水電阻率達到18兆歐，但是不進入水箱，直接進入用水點。因為水箱中若出現(xiàn)產(chǎn)水滯留，會影響產(chǎn)水水質(zhì)。純水供水設計為循環(huán)方式，經(jīng)純水供水泵增壓，通過紫外線消毒器、拋光混床接入純水供水管，到達使用點。

　　超純水設備作為半導體工業(yè)生產(chǎn)的重要基石，萊特萊德超純水設備改進了傳統(tǒng)工藝階段供水的缺點，配備了專業(yè)的濃水置換技術，防止膜系統(tǒng)受到微生物污染。通過完善的技術，提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行成本。能有效去除水中的雜質(zhì)、重金屬離子、細菌等有害物質(zhì)，實現(xiàn)超純水的大量連續(xù)供應。可滿足芯片生產(chǎn)用水的相關標準，降低企業(yè)生產(chǎn)風險和成本。