項目背景

　　隨著現(xiàn)代工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，對水質(zhì)提出了越來越嚴格的要求，超純水設(shè)備的應用也越來越廣泛。由于企業(yè)對水質(zhì)、產(chǎn)水、產(chǎn)水及自動控制的要求不同，在實際應用中，根據(jù)用戶需求設(shè)計的水系統(tǒng)解決方案是最經(jīng)濟高效的，這也是系統(tǒng)長期穩(wěn)定滿足設(shè)計要求的保證。

　　由于半導體相關(guān)基建的建造周期長，技術(shù)要求高，企業(yè)必須制定出一套長期戰(zhàn)略來打造卓越的設(shè)計和制造能力，某些細分領(lǐng)域的公司競相開發(fā)先進的工藝，逐鹿半導體行業(yè)市場。要想進一步推進數(shù)字化革命，需要更強大的計算和存儲能力，換言之，便是更先進的芯片，制造更先進的芯片的基礎(chǔ)就是用更高的水質(zhì)，超純水已經(jīng)成為企業(yè)競爭的制勝法寶。

　　項目詳情

　　項目名稱：南通某半導體元件廠超純水制取項目

　　原水水質(zhì)：本系統(tǒng)以客戶來水符合《生活飲用水衛(wèi)生標準》(GB5749-2006)設(shè)計(電導率<500um)，如果實際水質(zhì)與設(shè)計水質(zhì)有較大差異，可對系統(tǒng)工藝和配置進行適當調(diào)整。

　　目標水質(zhì)：根據(jù)產(chǎn)品水的用途與要求，確定超純水設(shè)備產(chǎn)水的目標水質(zhì)為：18MΩ·CM(25℃)

　　項目工藝：多介質(zhì)+雙反+EDI+TOC+拋光混床

　　項目優(yōu)勢

　　傳統(tǒng)的超純水制取工藝通常是采用離子交換樹脂，但需要經(jīng)常進行樹脂再生，既耗費物力又耗費人工，萊特萊德經(jīng)過多年實踐，采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備相結(jié)合的方式來制取超純水，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，與傳統(tǒng)方法相比，該設(shè)備具有以下優(yōu)勢：

　　1、無需使用任何再生化學品進行再生，減少了化學品運輸問題，同時降低了系統(tǒng)運行費用。

　　2、無需中和藥劑。EDI膜塊不會有酸堿廢液產(chǎn)生，所以不需要酸堿中和池，一般情況下，DI進水為二級反滲透產(chǎn)水，水質(zhì)較好，及時經(jīng)過EDI系統(tǒng)的濃縮之后，EDI的濃水水質(zhì)仍然優(yōu)于一級反滲透產(chǎn)水，所以EDI濃水可以回流至一級反滲透產(chǎn)水箱。

　　3、整套系統(tǒng)運行成本較低。這是因為反滲透沒有酸堿再生，減少了相關(guān)費用的產(chǎn)生。

　　4、水資源利用率高。與其他生產(chǎn)廠家相比，萊特萊德反滲透設(shè)備的回收率更高。

　　5、可以連續(xù)工作，無需樹脂更換，自動化性能強，無需人工操作。

　　6、設(shè)計結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，安裝方便。

　　萊特萊德超純水設(shè)備可以連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，不會因為樹脂再生而停止運行，設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計相對靠緊，其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間，超純水設(shè)備在出廠前均需進行試壓，所以設(shè)備故障幾率較小，日常保養(yǎng)、維修等操作都非常簡單。芯片超純水設(shè)備內(nèi)部還安置有反滲透預脫鹽技術(shù)，再次從根本上行保障了水處理設(shè)備的出水水質(zhì)。